| レチクルデータマネージメントガイドラインVer.1.0 （2002.8.26） |
| ２００１年１２月４日、並びに２００２年４月２６日のワークショップで発表されたガイドラインならびに活動報告。 |
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社団法人電子情報技術産業協会（ＪＥＩＴＡ）の半導体生産技術専門委員会・レチクルマネージメント小委員会では、SoC（System on Chip）ビジネスにおける、「デザインからマスク製造、そしてウェーハ製造にわたる」一貫した効率化を推進すべく、ガイドライン作成に取り組みました。 多品種少量生産に対応する情報技術の革新の中で、諸システム間で情報を共通に再利用できるようにインターフェース部分のデータ交換の標準化をスコープとして、さらに、装置及び生産システムベンダの方々の新規自動化アプリケーションビジネスの効率的な展開を支援することも目的に加えました。 本ガイドラインは、標準化を速めるためにＳｅｌｅｔｅ・ＳＥＭＩマイクロパターニング部会と連携してコンカレントに進めてきて、ガイドラインでとりあげた内容からすでに次の３つのWGからなるＳＥＭＩ―ＴＦが開設されました。 １．マスク欠陥データ関連ＷＧ ２．フレームデータ関連ＷＧ ３．マスクオーダフォーム＜Ｐ１０改訂＞／検査フォーム関連ＷＧ SoC生産のワークフローのトータルな効率化を狙ったVer.1.0に続き、分業から共創の時代におけるエンジニアリングチェーンの様々なモジュール及び全体最適化を支援する標準化をスコープとする Ver.2.0を計画しています。ここではデザインツールの情報とのリンク強化が重要で、 International SEMATECH及びＳＥＭＩ-ＮＡ，ＥＵと連携して、ＧＪＧ化を推進予定です。 |
| 2002/8/26 レチクルデータマネージメントガイドラインVer.1.0 ＜＜PDF[*.pdf(626KB)]＞＞ | |
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